이 기술은 현재 반도체 세정기술로 대부분 사용되는 습식 세정법에 비해 폐수처리 등에 들어가는 에너지를 60%(연간 1천380억원) 이상 절감할 수 있어 미래 성장동력산업으로 발전시킬 수 있는 획기적인 기술이라고 산자부는 설명했다.
반도체 생산 공정 중 불순물을 제거하는 세정과정에서 대부분 사용되는 습식 세정법은 많은 에너지를 소비하고 오염물질도 많이 배출하나, 이번에 개발된 기술은 초임계상태의 이산화탄소를 이용해 에너지 사용 및 환경처리 비용을 크게 줄일 수 있는 것이 특징이다.
산자부는 그동안 실용화에 어려움을 겪어왔던 이 기술을 이용한 건식 세정장비가 반도체 생산라인에 사용되면 국제적 표준기술로 자리 잡을 수 있을 것으로 기대하고 있다. 초임계 유체 건식 세정기술과 관련, 현재 국내 및 미국 특허 2편씩이 제출됐으며 국내외 반도체 장비업체들과 상업용 초임계 세정장비 개발이 협의되고 있다고 산자부는 전했다.
중소기업뉴스
webmaster@kbiz.or.kr