[핫이슈]반도체공정의 배출 물질 처리기술 개발
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[핫이슈]반도체공정의 배출 물질 처리기술 개발
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  • 승인 2003.09.02 00:00
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반도체 공정에서 배출되는 지구온난화물질인 과불화화합물(PFC)가스를 저온에서 분해할 수 있는 세계수준의 촉매식 처리기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.
㈜에코프로(대표이동채), ㈜유니셈(대표 정진기)은 한국화학연구원 화학기술부 박용기·김희영박사팀과 공동으로 환경부의 차세대 핵심환경기술 개발사업인 `반도체 공정 유해 폐가스 처리기술 개발’과제를 공동으로 수행, 반도체 공정에서 배출되는 PFC가스를 2차 환경오염물질 발생없이 효과적으로 제거할 수 있는 촉매식 처리기술을 개발했다고 최근 발표했다.
PFC 가스는 난분해성으로 열분해를 위해 섭씨 1천200도 이상의 고온이 필요했으나 이번에 개발된 촉매식 PFC 세정기는 섭씨 800도 이하의 저온에서도 99% 이상의 분해효율을 보인 것은 물론 질소산화물, 오존 등의 2차 오염물이 전혀 발생하지 않았다.
또 저렴하고 내구성이 뛰어난 촉매 개발로 인해 세정기의 수명을 향상시킴과 동시에 가격을 크게 낮출 수 있기 때문에 국제시장에서의 경쟁력이 기대된다.
촉매식 PFC 세정기는 현재 세계에서 일본의 히타치사만이 기술을 보유하고 있는 상태로 한국화학연구원이 개발한 세정기는 기술의 원리는 비슷하지만 촉매에서 일본제품보다 품질이 앞선다는 것이 연구진의 설명이다.
한국화학연구원은 이 기술의 핵심인 촉매는 이미 세계적인 화학전문지인 캠콤에 발표돼 인정을 받은 상태이며 국내 및 국제특허를 출원중에 있다고 밝혔다.
반도체공정에서 나오는 PFC가스는 배출량이 해마다 증가해 앞으로 4∼5년 후면 이산화탄소 배출량의 1%에 이를 것으로 전망되는 제2의 지구온난화물질로 한국, 미국, 유럽, 대만의 반도체 산업협회를 중심으로 이뤄진 세계반도체협의회(WSC)가 문제의 중요성을 인식, 지난 99년에 PFC가스 배출량의 자발적인 감축에 합의한 바 있다.

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