첨단기술 유출 방지와 국가경쟁력향상을 위해서는 특허 분야에서 가출원 제도가 도입돼야 한다는 주장이 제기됐다.
서천석 국제특허법률사무소 대표변리사는 최근 서울대 행정대학원이 `첨단기술유출방지와 특허제도를 주제로 개최한 제268회 `정책&지식 포럼에서 이렇게 밝혔다.
서 변리사는 “국내 특허 제도는 출원일의 우선을 기준으로 특허권이 부여되는 선원(先願)주의를 택하고 있어 발명자가 연구가 덜 된 상태에서 출원을 서두르게 된다”며 “이로 인해 첨단기술이 사전에 유출되거나 특허의 활성화가 어려워져 국가경쟁력이 낮아질 수 있다”고 지적했다.
그는 또 “완화된 요건으로 우선 출원한 뒤 1년 내에 정식 특허출원을 하면 출원날짜를 소급해 적용받을 수 있는 미국식 가출원 제도를 도입하면 시간에 쫓겨 특허를 냄으로써 일어날 수 있는 문제를 극복할 수 있다”고 주장했다.
토론자로 참석한 김남정 산업자원부 서기관은 이같은 문제제기에 대해 긍정적으로 검토할 뜻을 밝혔다.
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