한국기계연구원 송영훈 박사팀은 반도체 공정에서 나오는 이산화탄소 등 지구온난화 가스를 획기적으로 줄이면서 진공펌프의 수명을 연장할 수 있는 ‘플라즈마 공정가스 처리기술’을 개발하는데 성공했다고 30일 밝혔다.
기존 반도체 공정가스 처리를 위한 플라즈마 기술은 설비가격이 비싸고 유지보수 비용이 많이 들었으나, 이번에 개발된 기술은 플라즈마 발생을 위한 장치를 단순화시켜 설비가격을 절반 이하로 낮췄다. 또 기존 반도체 공정에서는 대기로 배출되는 공정가스를 소각공정을 통해 처리해 왔으나, 배출가스에 포함된 지구온난화 가스의 처리가 어렵고 소각 연소시 질소산화물과 같은 2차 오염원이 발생되는 문제를 안고 있었다. 아울러 24시간 연속운전해야 하기에 소각공정에 따른 에너지 소모도 많았다.
송 박사팀은 진공 플라즈마를 이용해 2차 오염원이 발생되지 않도록 했으며, 반도체 공정에서 배출되는 지구온난화 가스를 처리하는 경우에만 설비를 작동시켜 에너지 비용을 기존 소각공정의 10% 수준으로 낮췄다.
이와 함께 입자 부산물을 동시에 처리할 수 있어 진공펌프의 수명연장에도 큰 도움을 줄 것으로 기대된다.
송영훈 박사는 “이 기술은 친환경적인 반도체 공정을 위해 많은 투자와 노력을 기울이고 있는 국내외 반도체 업계에 미치는 영향이 클 것”이라며 “향후 반도체 공정 외에 LCD, OLED 등 디스플레이 공정의 지구온난화 가스처리나 진공펌프 수명연자에 적용될 가능성이 높다”고 말했다.
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